Проведено сравнительное исследование эффективности прямого фотолиза и комбинированной окислительной деструкции орто- и пара-хлорфенола в водном растворе ультрафиолетовым излучением KrCl (222 нм) и XeBr (282 нм) эксиламп в присутствии пероксида водорода. При комбинированной обработке достигнута высокая степень минерализации исходных загрязнителей и количественно подтверждена генерация гидроксильных радикалов.