Электрофизические параметры плазмы тлеющего разряда постоянного тока в смеси HCI/Ar

начальный состав смесей плазмы тлеющего разряда хлорсодержащие газы плазмы низкотемпературные газоразрядные плазмы бинарные смеси

Химическое полирования титана. Влияние концентрации раствора на параметры процесса химического полирования титана, Исследование влияния параметров синтеза на размер частиц гидроксида магния, ...

водит к изменению электрокаталитической активности комплексов, что проявляется в смещении потенциала полуволны процесса ионизации дикислорода ( Е ) в область положительных значе1 2 О / 2 ний. <...> Изменение электрокаталитической активности соединений в исследованных группах происходит в следующей последовательности: для тетрафенилпроизводных: СoT(4-OHPh)P > СoT(4-ClPh)P > СoT(4-IPh)P > > СoT(4-NO2Ph)P. для октафенилпроизводных: (OPhТАP)Сo > (ОBrOPhТАP)Сo > (ОClOPhТАP)Сo. <...> Внутрициклические изменения за счет введения атомов азота в порфириновый цикл приводят к снижению электрокаталитической активности соединений при переходе от моно- к диазапроизводным. <...> А.М. Ефремов, А.В. Юдина, В.И. Светцов ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА ПОСТОЯННОГО ТОКА В СМЕСИ HCl/Ar (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail: efremov@isuct.ru Проведен модельный анализ влияния начального состава смеси HCl/Ar на стационарные параметры плазмы (приведенная напряженность электрического поля, энергетическое распределение электронов, константы скоростей процессов под действием электронного удара) и концентрации заряженных частиц в условиях тлеющего разряда постоянного тока. <...> Ключевые слова: плазма, моделирование, скорость, концентрация ВВЕДЕНИЕ Низкотемпературная газоразрядная плазма бинарных смесей хлорсодержащих газов (Cl2, BCl3, HCl) с аргоном нашла применение в технологии микро- и наноэлектроники при проведении процессов «сухого» травления и очистки поверхности полупроводниковых пластин и функциональных слоев [1, 2]. <...> Использование Cl2 осложнено значительной коррозионной активностью и высокими степенями диссоциации [3], затрудняющими получение анизотропного профиля травления [1]. <...> В то же время, при разряде в HCl наблюдаются более низкие концентрации атомов хлора по сравнению с плазмой Cl2 [3, 4], что дает преимущество в анизотропии и селективности процесса при незначительной потере в скорости. <...> К сожалению, достоинства бинарных <...>

• Похожие документы из РУАЭСТ
• |
• Похожие документы из Руконт