СИСТЕМА В СИЛЬНОМ ЭЛЕКТРИЧЕСКОМ ПОЛЕ. АНАЛИЗ ЭЛЕКТРОННОГО РАСПАРИВАНИЯ
В рамках метода полного конфигурационного взаимодействия изучено действие сильного электрического поля на сопряженные π-системы. Поведение систем в поле анализируется с помощью индекса распаривания — числа Neff эффективно распаренных электронов. Для Neff выведены формальные асимптотические правила, отвечающие предельно большим значениям внешнего поля. Подробно изучаются индуцированные полем бирадикалоидные π-состояния.
Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
ИССЛЕДОВАНИЕ МОЛЕКУЛЯРНОЙ И КРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ СТРУКТУРЫ НОВОГО КООРДИНАЦИОННОГО ПОЛИМЕРА НИТРАТА МЕДИ(II) С 4,4,10,10-ТЕТРАМЕТИЛ-1,3,7,9-ТЕТРААЗОСПИРО[5.5]УНДЕКАН-2,8-ДИОНОМ,
CRYSTAL STRUCTURE OF A NOVEL COMPLEX [Co(3,3?-bpbc)(H2O)3]?H2O,
...
Резюме по документу**
В рамках метода полного конфигурационного взаимодействия изучено действие сильного электрического поля на сопряженные π-системы. <...> Поведение систем в поле анализируется с помощью индекса распаривания — числа Neff эффективно распаренных электронов. <...> Для Neff выведены формальные асимптотические правила, отвечающие предельно большим значениям внешнего поля. <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности
Похожие документы: