ЛАЗЕРНЫЙ РЕФЛЕКТОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД ИЗМЕРЕНИЯ ТОЛЩИНЫ И ХАРАКТЕРИСТИК РОСТА НАНОПЛЕНОК ЗОЛОТА НА КВАРЦЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ В ПРОЦЕССЕ ИХ НАПЫЛЕНИЯ

лазер измерение толщины пленки измерение характеристик роста пленки рефлектометрический метод пленка золота кварцевая подложка.

ОБОСНОВАНИЕ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ РЕАЛИЗАЦИЯ РАЦИОНАЛЬНОЙ ТОЧНОСТИ КОНСТРУКТИВНЫХ ПАРАМЕТРОВ МАШИН, ВЛИЯНИЕ СВЯЗУЮЩИХ НА СВОЙСТВА НОВЫХ ТЕПЛОИЗОЛЯЦИОННЫХ ПОКРЫТИЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СТЕКЛЯННЫХ МИКРОСФЕР, ...

Ю.В. Федотов ЛАЗЕРНЫЙ РЕФЛЕКТОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД ИЗМЕРЕНИЯ ТОЛЩИНЫ И ХАРАКТЕРИСТИК РОСТА НАНОПЛЕНОК ЗОЛОТА НА КВАРЦЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ В ПРОЦЕССЕ ИХ НАПЫЛЕНИЯ Описан лазерный рефлектометрический метод измерения толщины и характеристик роста пленок металлов на диэлектрической подложке в процессе их напыления, основанный на измерении коэффициентов отражения в разные моменты времени и определении неизвестных значений толщины и характеристик роста пленки путем численного решения нелинейных уравнений. <...> 50 нм при измерениях на длине волны 515 нм толщина пленки золота и параметры ее роста могут быть восстановлены со среднеквадратической погрешностью меньше 0,5 и 8 % соответственно при среднеквадратическом значении шума 1 %. <...> E-mail: ekomonit@bmstu.ru Ключевые слова: лазер, измерение толщины пленки, измерение характеристик роста пленки, рефлектометрический метод, пленка золота, кварцевая подложка. <...> Создание упорядоченных металлических наноструктур и контроль их параметров — сложная технологическая задача. <...> Первым технологическим этапом при этом является напыление тонкого металлического покрытия на диэлектрическую подложку. <...> В качестве диэлектрической подложки применяется кварц вследствие высокого коэффициента пропускания и отсутствия дисперсии диэлектрической проницаемости в видимом и ближнем инфракрасном диапазонах. <...> Перспективным методом контроля толщины тонких металлических пленок непосредственно в процессе их получения (in situ-метод) является лазерный рефлектометрический метод [2—6]. <...> 2012 99 Однако метод, приведенный в работе [7], позволяет определять только толщину пленки в момент измерения. <...> Этого вполне достаточно для контроля толщины пленок при равномерной и не очень высокой скорости роста пленки, когда по ряду данных измерений толщины пленки можно спрогнозировать момент остановки процесса напыления (для получения определенной толщины пленки). <...> При неравномерной и высокой скорости нарастания <...>

• Похожие документы из РУАЭСТ
• |
• Похожие документы из Руконт