РУсскоязычный Архив Электронных СТатей периодических изданий
Автометрия/2015/№ 6/
В наличии за
300 руб.
Купить
Облако ключевых слов*
* - вычисляется автоматически
Недавно смотрели:

ВЫСОКОЭФФЕКТИВНЫЙ ДИФРАКЦИОННЫЙ ПОВОРОТНЫЙ ФОКУСИРУЮЩИЙ ЭЛЕМЕНТ

Проведены исследования формы дифракционной структуры киноформного поворотного элемента, предназначенного для фокусировки мощных лазерных пучков с длиной волны 10,6 мкм. Получены формулы для расчёта световых потерь, вызванных наклоном падающего пучка, дифракцией и технологическим размытием крутого склона структуры. Показано, что высота структуры должна изменяться от минимального до максимального значения в зависимости от азимутального угла. Определено, что световые потери, вызванные затенением из-за наклонного падения лучей, достаточно низкие (0,6–1,3 %), а из-за дифракции — на порядок меньше и могут не учитываться. Потери, обусловленные технологическим размытием склона и отклонением высоты структуры от расчётного значения (при несоблюдении азимутальной зависимости), могут быть выше 10 %.

Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
Проведены исследования формы дифракционной структуры киноформного поворотного элемента, предназначенного для фокусировки мощных лазерных пучков с длиной волны 10,6 мкм. <...> Получены формулы для расчёта световых потерь, вызванных наклоном падающего пучка, дифракцией и технологическим размытием крутого склона структуры. <...> Показано, что высота структуры должна изменяться от минимального до максимального значения в зависимости от азимутального угла. <...> Определено, что световые потери, вызванные затенением из-за наклонного падения лучей, достаточно низкие (0,6–1,3 %), а из-за дифракции — на порядок меньше и могут не учитываться. <...> Потери, обусловленные технологическим размытием склона и отклонением высоты структуры от расчётного значения (при несоблюдении азимутальной зависимости), могут быть выше 10 %. <...> Проведены исследования формы дифракционной структуры киноформного поворотного элемента, предназначенного для фокусировки мощных лазерных пучков с длиной волны 10,6 мкм. <...> Получены формулы для расчёта световых потерь, вызванных наклоном падающего пучка, дифракцией и технологическим размытием крутого склона структуры. <...> Показано, что высота структуры должна изменяться от минимального до максимального значения в зависимости от азимутального угла. <...> Определено, что световые потери, вызванные затенением из-за наклонного падения лучей, достаточно низкие (0,6–1,3 %), а из-за дифракции — на порядок меньше и могут не учитываться. <...> Потери, обусловленные технологическим размытием склона и отклонением высоты структуры от расчётного значения (при несоблюдении азимутальной зависимости), могут быть выше 10 %. <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности

Похожие документы: