РУсскоязычный Архив Электронных СТатей периодических изданий
Научный вестник Новосибирского государственного технического университета/2014/№ 1/

Шаблоны для глубокой рентгенолитографии

Описана достаточно простая технология производства характеризующихся высокими уровнями рентгенопрозрачности, геометрической стабильности и прочности рентгенолитографических шаблонов с тонкими (толщиной ~ 40÷120 мкм) несущими мембранами на основе нового материала – эпоксидографита, представляющего собой заполимеризованную эпоксидную смолу с графитовым наполнителем. Разновидностью данного материала, является суграфит, где в качестве связующей основы используется разработанный на базе эпоксидных смол промышленновыпускаемый негативный резист SU-8. Шаблоны из суграфита внешне и по основным литографическим характеристикам ничем не отличаются от эпоксидографитовых, но имеют ряд дополнительных преимуществ, а именно, они характеризуются более высокими уровнями радиационной и температурной стойкости (температурный предел их разрушения ~ 380 °С), что обеспечивает возможность проведения с ними высокотемпературных операций (до 250 °С). Дополнительным преимуществом эпоксидографитовых шаблонов, вытекающим из их электропроводности и прочности, является возможность использования при проведении рентгенолитографии электростатического прижима, что позволяет заметно улучшить качество формируемого топологического рисунка. Приведены проиллюстрированные фотографиями первые результаты применения таких шаблонов в пучках синхротронного излучения в области длин волн экспонирующего излучения λ ≈ 0,5÷3 Å. Рассмотрены перспективы применения в более мягком спектральном диапазоне λ ≈ 3÷7 Å, что позволит использовать их в качестве переходных шаблонов (для формирования резистивной маски при изготовлении ЛИГА-шаблонов), а также расширит диапазон материалов, используемых для обрабатываемых подложек (благодаря подбору экспонирующего спектра и снижению уровня флуоресценции от рабочей поверхности при их облучении). Предполагаемая прикладная область применения рентгеновских шаблонов данной конструкции – это формирование микрорельефов при создании литьевых или пресс-форм и изделий микросистемной техники.

Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности

Похожие документы: