ЛЕГИРОВАНИЕ АЛМАЗА, ВЫРАЩЕННОГО МЕТОДОМ ГАЗОФАЗНОГО ОСАЖДЕНИЯ

Изучение процессов и методов легирования алмаза, выращенного методом газофазного осаждения (Chemical Vapor Deposition - CVD) – одна из наиболее актуальных задач в алмазной электронике на сегодняшний день. Понимание природы процесса легирования алмаза необходимо для совершенствования электронных свойств алмаза и применения его как полупроводникового материала в микроэлектронике. В представленной работе изложены результаты исследования процессов легирования алмаза бором и азотом и предложены новые методы легирования алмаза. Представлены результаты измерений концентрации легирующих примесей и электронных свойств полученных алмазных слоев.

• ВОЛКОВА П.
• Бормашов В.С.
• Тарелкин С.А.
• Терентьев С.А.
• Корнилов Н.В.
• Тетерук Д.В.

• Прикладные науки. Медицина. Технология

• Социальные (общественные) науки
• Естественные науки