ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ НА СКОРОСТЬ ТРАВЛЕНИЯ И КАЧЕСТВО ПОВЕРХНОСТИ GaAs ПРИ ОБРАБОТКЕ В ПЛАЗМЕ HCl-Ar, HCl-Cl2, HCl-H2

Проведено исследование влияния температуры на скорость травления GaAs в смесях HCl/Ar, HCl/H2, HCl/Cl2. Найдены эффективные энергии активации процесса травления в смесях HCl/Ar, HCl/H2, HCl/Cl2. Значения энергий активации для всех газовых сред характерны для реакций, лимитируемых адсорбционно-десорбционными процессами на поверхности материала. Показано, что оптимальное сочетание скорости травления и шероховатости поверхности достигается в смеси HCl/Ar. В смесях с H2 скорости травления слишком малы при хорошем качестве поверхности, а в смесях с Cl2 шероховатость поверхности превышает допустимые значения.

• ДУНАЕВ А.В.
• Мурин Д.Б.
• Пивоваренок С.А.
• Капинос С.П.

• Прикладные науки. Медицина. Технология

• Социальные (общественные) науки
• Естественные науки