![]() |
Влияние режимов фотолитографического цикла на величину отрицательного угла маски из позитивного фоторезистаИльин Е.Ю.,Жукова А.,Герасименко Н.Н.
Известия высших учебных заведений. Электроника, 2015, 4, С. 108-110
|