Кинетика атомно-молекулярных реакций и концентрации нейтральных частиц в плазме HCI, его смесях с хлором и водородом

кинетика реакций концентрация частиц низкотемпературные газоразрядные плазмы плазмы хлорсодержащих газов хлорсодержащие газы хлор водород атомно-молекулярные реакции

Симпозиум и школа "Актуальные проблемы науки о полимерах", Низкотемпературное окисление железа в процессе его механической активации, ...

А.М. Ефремов, В.И. Светцов, А.В. Юдина, С.С. Лемехов КИНЕТИКА АТОМНО-МОЛЕКУЛЯРНЫХ РЕАКЦИЙ И КОНЦЕНТРАЦИИ НЕЙТРАЛЬНЫХ ЧАСТИЦ В ПЛАЗМЕ HCL ЕГО СМЕСЯХ С ХЛОРОМ И ВОДОРОДОМ (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail: efremov@isuct.ru Проведено исследование стационарного состава плазмы в смесях HCl/Cl2 и HCl/H2 переменного состава в условиях тлеющего разряда постоянного тока (р = 30–250 Па, ip=10-30 мА). <...> Найдено, что баланс нейтральных частиц в значительной степени формируется атомно-молекулярными процессами. <...> Показано, что добавки Cl2 или H2 к хлоровододороду до 20% не приводят к существенным изменениям электрофизических параметров плазмы, но вызывают неаддитивные изменения концентраций нейтральных частиц. <...> Ключевые слова: плазма, моделирование, диссоциация, скорость, концентрация ВВЕДЕНИЕ Низкотемпературная газоразрядная плазма хлорсодержащих газов нашла широкое применение в технологии микро- и наноэлектроники при проведении процессов «сухого» травления и очистки поверхности полупроводниковых пластин и функциональных слоев [1, 2]. <...> Известно, что при разряде в HCl имеют место более низкие концентрации атомов хлора по сравнению с плазмой Cl2 [3, 4], что дает преимущество в анизотропии и селективности процесса при незначительной потере в скорости травления. <...> Кроме этого, плазма HCl позволяет получать полирующее травление GaAs за счет химических реакций атомов водорода [1, 5]. <...> Тем не менее, полноценное технологическое использование плазмы HCl затруднено недостаточной изученностью механизмов физикохимических процессов, определяющих стационарные концентрации активных частиц плазмы и их потоки на обрабатываемую поверхность. <...> Целью данной работы является исследование скорости и механизмов процессов, формирующих стационарный состав плазмы HCl, а также смесей HCl/Cl2 и HCl/H2 переменного состава. <...> В качестве внешних (задаваемых) параметров разряда выступали ток разряда (ip = 20 мА), давление газа (р = 30–250 Па) и расход <...>

• Похожие документы из РУАЭСТ
• |
• Похожие документы из Руконт