РУсскоязычный Архив Электронных СТатей периодических изданий
Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология/2011/№ 9/
В наличии за
40 руб.
Купить
Облако ключевых слов*
* - вычисляется автоматически
Недавно смотрели:

Электрофизические параметры и эмиссионные спектры плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде

Получены данные по температуре газа и приведенной напряженности электрического поля. Показано, что интенсивность излучения CL[2], CL и H в первом приближении пропорциональны концентрациям этих частиц в плазме.

Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
С.А. Пивоваренок, А.В. Дунаев, Д.Б. Мурин, А.М. Ефремов, В.И. Светцов ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ И ЭМИССИОННЫЕ СПЕКТРЫ ПЛАЗМЫ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА В ХЛОРИСТОМ ВОДОРОДЕ (Ивановский государственный химико-технологический университет) e-mail: efremov@isuct.ru Проведен анализ электрофизических параметров и спектра излучения плазмы HCl в условиях тлеющего разряда постоянного тока. <...> Показано, что интенсивности излучения Cl2, Cl и H в первом приближении пропорциональны концентрациям этих частиц в плазме. <...> Ключевые слова: плазма, излучение, интенсивность, возбуждение, концентрация, хлористый водород ВВЕДЕНИЕ Низкотемпературная плазма тлеющего разряда в галогеноводородах, в первую очередь в хлористом водороде, в последние годы достаточно широко применяется в технологии микро- и наноэлектроники при проведении процессов «сухого» травления и очистки поверхности полупро48 водниковых пластин и функциональных слоев [1]. <...> Целью данной работы являлось исследование электрофизических параметров и эмиссионных спектров плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде и возможностей контроля относительных концентраций частиц по соответствующим интенсивностям излучения. <...> В качестве внешних (задаваемых) параметров разряда выступали ток разряда (ip=15–35 мА), давление газа (p=40–200 Па) и расход газа (q=2 см3/сек при нормальных условиях). <...> [4] с использованием экспериментальных данных по температуре наружной стенки (TW). <...> При определении приведенной напряженности поля E/N (N=p/kBT – общая концентрация частиц в реакторе) проводилось усреднение температуры в предположении о заданном (Бесселевском) профиле радиального распределения этого параметра. <...> РЕЗУЛЬТАТЫ И ИХ ОБСУЖДЕНИЕ Эксперименты показали, что увеличение давления газа при ip=const и тока разряда при p=const приводят к росту как температуры стенки разрядной трубки, так и температуры газа (рис. <...> Приведенная напряженность электрического поля слабо зависит от тока разряда, но заметно уменьшается <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности

Похожие документы: