Технология изготовления дифракционных оптических элементов методом плазмохимического травления для формирования точечных эталонных изображений
Рассмотрен вариант конструкции дифракционных оптических элементов (ДОЭ), работающих на пропускание в составе оптических систем во втором порядке дифракции. Обоснована необходимость применения фазовых ДОЭ. Показана возможность применения фазовых ДОЭ, имеющих двухуровневую структуру при прямоугольном микропрофиле рабочей поверхности. Подтверждены возможности изготовления ДОЭ и голограммных оптических элементов ( ГОЭ) с применением установки плазмохимического травления (ПХТ) Caroline 15 PE. Определены оптимальные режимы ПХТ для ДОЭ из щелочного стекла. Установлено, что максимальная глубина рельефа ДОЭ и ГОЭ соответствует максимальной селективности травления стекла относительно материала маски. При толщине хромовой маски 100 нм достигается глубина микрорельефа до 1,4 мкм, что обеспечивает повышение дифракционной эффективности ДОЭ и ГОЭ. Относительная интенсивность света во втором порядке дифракции может составлять 30 %, что позволит создавать новые изделия микрооптики.
Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
УДК 535.421: 681.7.026.53
Технология изготовления дифракционных оптических
элементов методом плазмохимического травления
для формирования точечных эталонных изображений
С.Б. Одиноков, Г.Р. Сагателян, А.Б. Соломашенко, Е.А. Дроздова
МГТУ им. <...> Н.Э. Баумана, Москва, 105005, Россия
Рассмотрен вариант конструкции дифракционных оптических элементов (ДОЭ),
работающих на пропускание в составе оптических систем во втором порядке дифракции. <...> Подтверждены возможности
изготовления ДОЭ и голограммных оптических элементов ( ГОЭ) с применением
установки плазмохимического травления (ПХТ) Caroline 15 PE. <...> Определены
оптимальные режимы ПХТ для ДОЭ из щелочного стекла. <...> Установлено, что максимальная
глубина рельефа ДОЭ и ГОЭ соответствует максимальной селективности
травления стекла относительно материала маски. <...> При толщине хромовой
маски 100 нм достигается глубина микрорельефа до 1,4 мкм, что обеспечивает
повышение дифракционной эффективности ДОЭ и ГОЭ. <...> Относительная интенсивность
света во втором порядке дифракции может составлять 30 %, что позволит
создавать новые изделия микрооптики. <...> Ключевые слова: дифракция, оптический элемент, дифракционная решетка, профиль
микрорельефа, глубина канавок, оптическое стекло, плазмохимическое травление,
маска, селективность травления, режимы травления, дифракционная эффективность. <...> Наиболее эффективным способом
решения проблемы нерасстраиваемости такого эталона является применение
ДОЭ, работающего на пропускание света и содержащего несколько
дифракционных решеток — по одной на каждую формируемую
точку (рис. <...> Три дифракционные решетки расположены одна над другой так, что
их периоды различны и дифрагированные лучи пересекаются в одной
точке в центре зрачка. <...> В данной работе на основе предварительных исследований [4]
предлагается применять преломляющие (работающие на пропускание)
голограммные оптические элементы (ГОЭ) и ДОЭ из щелочного
стекла, идентичного по своим оптическим характеристикам <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности
Похожие документы: