Особенности радиального распределения параметров плазмы начального участка сверхзвуковой струи, формируемой импульсным капиллярным разрядом

импульсный разряд капилляр абляция спектроскопия сверхзвуковая струя профиль давления концентрация электронов температура.

Тепловая устойчивость термоядерной плазмы при различных моделях удержания энергии, Исследование модификации поверхности микрочастиц меламин-формальдегида (MF-R) в комплексной плазме, ...

Прикладная физика, 2016, 2 ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ УДК 533.9.082.5; 537.523 Особенности радиального распределения параметров плазмы начального участка сверхзвуковой струи, формируемой импульсным капиллярным разрядом <...> А. С. Пащина, А. В. Ефимов, В. Ф. Чиннов, А. Г. Агеев Представлены результаты спектроскопии начального участка сверхзвуковой плазменной струи, формируемой с помощью импульсного разряда в капилляре с аблирующей стенкой, выполненной из углеродсодержащего полимера. <...> Выявлены особенности пространственного распределения электронной плотности и интенсивности спектральных компонент, которые, в частности, вызваны высоким значением электронной температуры в «горячей» центральной зоне, превышающем «нормальную» температуру, а также существенной неизобаричностью начального участка сверхзвуковой струи. <...> Зарегистрированные с высоким временным (1—50 мкс) и пространственным (30—50 мкм) разрешением излучательные свойства высокотемпературного ядра струи (интенсивность и контур бальмеровских линий Hα и Hβ, относительные интенсивности ионных линий C II) позволили установить основные закономерности в распределениях давления и температуры в окрестности центрального скачка уплотнения. <...> Благодаря наличию в потоке молекулярных компонентов, проявляющих свои излучательные свойства на периферии струи, удалось получить представление о параметрах плазмы в зоне образования «висячих» скачков уплотнения. <...> Введение Импульсный разряд в капилляре с аблирующей стенкой привлекает внимание исследователей благодаря возможности получения сильноионизованной плотной плазмы требуемого химического состава в широком диапазоне параметров за счет использования достаточно простых процедур: выбора вида и способа подачи рабочего тела (абляция стенки капилляра, инжекция рабочего вещества), размеров капилляра, параметров разрядного импульса [1, 2]. <...> Большой круг прикладных задач связан с применением капиллярного <...>

• Похожие документы из РУАЭСТ
• |
• Похожие документы из Руконт