РУсскоязычный Архив Электронных СТатей периодических изданий
Известия высших учебных заведений. Электроника/2015/№ 3/
В наличии за
140 руб.
Купить
Облако ключевых слов*
* - вычисляется автоматически
Недавно смотрели:

Локальное электрохимическое осаждение пермаллоя на кремниевые пластины с магниторезистивными наноструктурами

Представлены результаты исследований параметров пермаллоевых пленок, полученных методом электрохимического осаждения в локальные области, ограниченные фоторезистивной маской на металлизированной поверхности кремниевой пластины. Получены экспериментальные зависимости магнитных параметров осажденного пермаллоя от времени выдержки электролита. Показана возможность применения осажденных пленок в качестве экранов магнитного поля цифровых изоляторов с гальванической развязкой на основе магниторезистивных наноструктур.

Авторы
Тэги
Тематические рубрики
Предметные рубрики
В этом же номере:
Резюме по документу**
КРАТКИЕ СООБЩЕНИЯ BRIEF REPORTS УДК 621.3.049.77.002 Локальное электрохимическое осаждение пермаллоя на кремниевые пластины с магниторезистивными наноструктурами <...> Амеличев2 1ООО «НПП «Технология»» (г. Москва) 2НПК «Технологический центр» (г. Москва) Local Electrochemical Deposition of Permalloy Films on Silicon Wafers with Magnetoresistance Nanostructures S.V. <...> Amelichev2 1JSC «NPP «Technology»», Moscow 2SMC «Technological Center», Moscow Представлены результаты исследований параметров пермаллоевых пленок, полученных методом электрохимического осаждения в локальные области, ограниченные фоторезистивной маской на металлизированной поверхности кремниевой пластины. <...> Получены экспериментальные зависимости магнитных параметров осажденного пермаллоя от времени выдержки электролита. <...> Показана возможность применения осажденных пленок в качестве экранов магнитного поля цифровых изоляторов с гальванической развязкой на основе магниторезистивных наноструктур. <...> The results of the study on the parameters of permalloy films, produced by the electrochemical deposition in the local areas, limited by the photoresist mask on metallic surface of silicon wafer, have been presented. <...> The experimental dependencies of magnetic parameters of the deposited permalloy on the electrolyte excerpt time have been obtained. <...> Для решения первой задачи используют концентраторы магнитного поля, а для решения второй – экраны магнитного поля. <...> В том и другом случае эффективность элементов будет зависеть от магнитных параметров ферромагнитных материалов. <...> Материал концентратора или экрана магнитного поля должен обеспечивать низкую коэрцитивную силу и высокую магнитную проницаемость. <...> Физические свойства пленок пермаллоя определяются методом их получения. <...> Высокая магнитная проницаемость концентратора магнитного поля из пермаллоя достигается при электрохимическом осаждении пленки пермаллоя толщиной 1015 мкм [1]. <...> Увеличение толщины пленки вопреки ожидаемым результатам не способствует увеличению магнитного потока насыщения, а влияет на относительную магнитную проницаемость, которая уменьшается, как считается, из-за роста напряженности толстых пленок. <...> Электрохимическая <...>
** - вычисляется автоматически, возможны погрешности

Похожие документы: